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标题: 真空溅镀EMI屏蔽 [打印本页]

作者: svd0427 时间: 2011-9-5 10:19
标题: 真空溅镀EMI屏蔽

真空溅镀EMI的应用范围
真空溅镀EMI具有高导电性和高电磁屏蔽效率等特点，广泛应用于通讯制品(移动电话)、电脑(笔记本)、便携式电子产品、消费电子、网络硬件(服务器等)、医疗仪器、家用电子产品和航空航天及国防等电子设备的EMI屏蔽。

适用于各种塑胶制品的金属屏蔽（PC、PC+ABS、ABS等）。　

EMI溅射镀膜的特点

真空技术是结合机械、电机、材料、化工和航太等技术发展出来的产业，亦是目前我国与美、日等国极力推动之十大新兴产业之一。真空技术应用范围日趋广泛，运用对象包括光电、半导体和LCD产业等，近年来尤其在光电、IC和LCD等产业之制造设备，更是成长迅速。

EMI溅射镀膜具有以下特点：

价格低（国内拥有自主知识产权的话）。

真空溅射加工的金属薄膜厚度只有0.5～2μm，绝对不影响装配。

真空溅射是彻底的环保制程，绝对环保无污染。

欲溅射材料无限制, 任何常温固态导电金属及有机材料、绝缘材料皆可使用（例：铜、铬、银、金、不锈钢、铝、氧化矽SiO2等）。

被溅射基材几无限制（ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等）。

膜质致密均匀、膜厚容易控制。

附著力强（ASTM3599方法测试4B）。

可同时搭配多种不同溅射材料之多层膜。并且，可随客户指定变换镀层次序。

作者: 孔今 时间: 2011-9-5 19:53

以上楼主说的基本都赞同，但真空溅射还是有缺点的，如低频磁场的屏蔽效能低、结构搭接处理复杂或实现难等。

作者: rarkii 时间: 2011-9-8 22:34

真空电镀的一个优势就是附着力强，不用担心颗粒掉下来引起短路燃烧等；
劣势在于不良率偏高，工艺复杂；
如果对低频磁场要求不高的消费电子应该是首选~

作者: 桃花岛主 时间: 2011-9-8 22:52
回复 3# rarkii

说的很精辟，附着力强，不良率高，说到了点子上。

作者: svd0427 时间: 2011-9-9 15:21

不良率高是指2%？3%？

作者: rarkii 时间: 2011-9-22 09:17

回复 5# svd0427

据我所知，不良率应该在5%以上

作者: svd0427 时间: 2011-9-22 11:32

我可以做到2%，有需要的请致电15814041520

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