谢谢!
起初我在3m实验室用镊子接触25MHz晶振的20PF电容的接地脚,发现375MHz能量由45dbuv上升为62dbuv.这个地与系统GND是分开的,再用镊子接触20PF电容附近的系统GND,发现375MHz能量由45dbuV上升为55dbuv。初步判断是晶振电容地太脏将Noise耦合到系统GND。但我不太肯定这么强的能量有发射途径,因此使用近场探头量测晶振周围,量测晶振电容GND为-50dbm,其它地方为-55dbm,甚至60dbm
后来。于是我判断干扰源来自晶振周围的GND未处理好。围绕晶振下了一些对策不管用。就在MII_CPU_TX_CLK上加10PF电容将问题解决,可是这个地方用近场探头量测的辐射值不是很大啊。
基于以上我有以下疑问
1.近场探头量测到的干扰源都是透过辐射接受到的,EMI天线也是接受辐射的电磁波;按道理说近场探头发现的最大的源应该也是EMI天线发现的最大的源啊。可是实际表现怎么不太一致?
2.另外我尝试的solution有一个是:在CLK Output脚加Bead,滤除375MHz,可是没有多大效果;疑问中? |